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研究了等离子喷涂单一MoSi2涂层在不同的热处理工艺条件下发生的变化,结果表明650℃保温1 h,试样出现粉化现象,750℃保温1 h试样背面出现Mo的氧化物晶体,这为自愈合现象的存在提供了前提条件,对研究热障涂层中MoSi2的作用机理有一定指导意义.
MoSi2涂层在不同热处理工艺下的研究
【摘 要】
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研究了等离子喷涂单一MoSi2涂层在不同的热处理工艺条件下发生的变化,结果表明650℃保温1 h,试样出现粉化现象,750℃保温1 h试样背面出现Mo的氧化物晶体,这为自愈合现象的存
【机 构】
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北京理工大学材料科学与工程学院,华东交通大学
【出 处】
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新技术新工艺
【发表日期】
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2005年7期
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