SiO2/Si上石墨烯薄膜的化学气相沉积法制备及其性能表征

来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户：rona

【摘要】

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【作者】

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刘喜锋张鹏博方小红陈小源

【出处】

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半导体光电

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

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石墨烯化学气相沉积 SiO2/Si 铜

【基金项目】

：

中国科学院/国家外国专家局创新团队国际合作伙伴计划项目

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技术领域,包括主机、控制电路和计算机三部分组成,主机包括由棱镜。敏感膜敏感芯片、半导 Ue*M#

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