【摘 要】
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本文对离子注入技术进行了比较系统的阐述,试图通过它来帮助半导体器件设计和工艺人员对离子注入机的基本原理、离子注入的物理过程、注入工艺参数的设计和选择、以及为什么
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本文对离子注入技术进行了比较系统的阐述,试图通过它来帮助半导体器件设计和工艺人员对离子注入机的基本原理、离子注入的物理过程、注入工艺参数的设计和选择、以及为什么目前在半导体领域中纷纷采用这门技术等问题有一个基本的了解。同时,也试图与离子注入机的设计和制造人员探讨一个问题:即从半导体器件工艺角度出发,为什么对离子注入机要提出一些特殊的要求。
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