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真空蒸发镀膜是在真空环境下将镀膜材料加热熔化后蒸发,使其大量原子、分子离开镀膜材料表面,凝结在被镀件基体表面形成膜层的过程。相对于其它物理气相沉积技术,该技术具有设备简单,价格便宜,工艺容易掌握,可进行大规模生产等优点。我国已在超大容积室体的高真空动态快速获得、镀膜过程组态控制和复合镀制高性能保护膜、复杂曲面结构的均匀镀膜、