Ti-O化合物制备TiO2薄膜热处理及透射率研究

来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lsq_1123

【摘要】

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采用离子束辅助蒸发,以TiO2,Ti3O5,Ti2O3为膜料,制备了具有良好光学透射性的TiO2薄膜.结果分析表明,所制备出的TiO2薄膜均为非晶态结构,退火后薄膜发生晶化均具有明显的(101)

【作者】

：

郭培涛薛亦渝张光勇王汉华马中杰

【机构】

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武汉理工大学

【出处】

：

真空电子技术

【发表日期】

：

2007年2期

【关键词】

：

TiO2光学薄膜退火氧流量透射率 TiO2 optical thin filmsAnnealO2-fluxTransmittance

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采用离子束辅助蒸发,以TiO2,Ti3O5,Ti2O3为膜料,制备了具有良好光学透射性的TiO2薄膜.结果分析表明,所制备出的TiO2薄膜均为非晶态结构,退火后薄膜发生晶化均具有明显的(101)择优取向;晶化的程度和退火温度的高低有关;退火处理之后以TiO2,Ti3O5为膜料制备的薄膜透射率下降,而以Ti2O3为膜料的上升;膜料不同对氧的需求量不同:以TiO2,Ti3O5为膜料制备薄膜所需氧量,远小于以Ti2O3为膜料所需氧量,氧流量过多降低了薄膜的透射性能,且随氧流量的不同,薄膜的透射率曲线均发生偏移,

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