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本文针对井式气体渗碳炉，提出了炉温动态控制模型，设计了炉温动态控制硬、软件系统，硬件设计采用了新型的集成元件固态继电器触发可控硅，从而大大简化了线路，提高了系统的稳定性。该系统经调试，其控温精度可达±１℃，炉温均匀性达到了±５℃。
井式渗碳炉温度动态控制
【摘 要】
：
本文针对井式气体渗碳炉，提出了炉温动态控制模型，设计了炉温动态控制硬、软件系统，硬件设计采用了新型的集成元件固态继电器触发可控硅，从而大大简化了线路，提高了系统的稳定性。
【机 构】
：
西北工业大学
【出 处】
：
工业加热
【发表日期】
：
1994年6期
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