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随着印制电路板的密集布线、线路狭间隔、小孔距的设计与制造技术的发展，在保证其基材的绝缘可靠性方面，覆铜箔板耐离子迁移问题，被越来越看作为一个突出重要的研究课题。本文综述了日本近几年来，在此方面，对离子迁移的发生特性、反应机理、影响因素以及提高覆铜箔板耐离子迁移性等方面的研究和进展。
覆铜箔板耐离子迁移性的研究
【摘 要】
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随着印制电路板的密集布线、线路狭间隔、小孔距的设计与制造技术的发展，在保证其基材的绝缘可靠性方面，覆铜箔板耐离子迁移问题，被越来越看作为一个突出重要的研究课题。本文综
【机 构】
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北京绝缘材料厂!100054
【出 处】
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绝缘材料通讯
【发表日期】
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1997年01期
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