【摘 要】
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以铜箔为基底通过常压化学气相沉积法制备了高质量、连续的少层石墨烯。采用极化曲线和电化学阻抗谱对纯铜箔及石墨烯/铜样品在0.1 mol/L Na Cl溶液中的抗腐蚀性能进行了研究
【机 构】
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太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,太原理工大学材料科学与工程学院
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以铜箔为基底通过常压化学气相沉积法制备了高质量、连续的少层石墨烯。采用极化曲线和电化学阻抗谱对纯铜箔及石墨烯/铜样品在0.1 mol/L Na Cl溶液中的抗腐蚀性能进行了研究。结果表明,石墨烯/铜样品的自腐蚀电位比纯铜箔的高0.114 V,腐蚀电流密度较纯铜箔的低1个数量级,极化电阻较纯铜箔的高4.4倍,阻抗模值比纯铜箔的提高了约1个数量级。因此,石墨烯可以作为铜表面的保护层,抑制铜在Na Cl溶液中发生电化学反应,从而增强铜的抗腐蚀性能。
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