在（111）Si基底上直接溅射合成PbTiO3薄膜以及Pb损失的抑制

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fanxingyi

【摘要】

：

利用射频磁控溅射系统，采用Ｔｉ、Ｐｂ组合靶，以Ｏ２为反应气体，在（１１１）Ｓｉ基板上直接沉积ＰｂＴｉＯ３薄膜，通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中采用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的

【作者】

：

赵强汤兆胜

【机构】

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中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜技术中心

【出处】

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功能材料

【发表日期】

：

2000年4期

【关键词】

：

PBTIO3 铁电薄膜 Pb损失冷却速率 PbTiO3 ferroelectric thin films lead loss cooling rate

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利用射频磁控溅射系统，采用Ｔｉ、Ｐｂ组合靶，以Ｏ２为反应气体，在（１１１）Ｓｉ基板上直接沉积ＰｂＴｉＯ３薄膜，通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中采用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构和组成以及光学和电学特性的测试１分析得出：在５３５℃时沉积、溅射后直接充入１０７Ｐａ的氧气并且以３℃／ｍｉｎ的速率降至室温，制备出了性能较好的具有钙钛矿结构的ＰｂＴｉＯ３薄膜，并对薄膜的形成

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