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采用直流磁控溅射方法制备Ti/Cu和Cu/Nb多层金属反射膜,并对膜的紫外光反射性能进行研究,发现该膜的反射性能与基片的结构和温度、多层膜的周期和结构有关.选用取向为(100)的单晶Si为基片,在基片温度为470℃左右、多层膜的周期为30时,膜的结晶性较好.且多层膜的反射率随波长的减小而增加,在波长为250nm时,反射率可达到65%