浸没式ArF光刻最新进展

来源 :2006年辐射光源及其材料科技研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bodeying123
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本文简单概述了浸没式ArF的发展历史、特点和面临的科学技术问题,在跟踪报道国内外最新研究进展的同时,介绍前沿光刻技术的研发特点和研究手段,强调协同设计研究的重要地位,并揭示浸没式hrF光刻不是干式ArF光刻的简单移置和延续。
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