基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制

来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：haizibooks

【摘要】

：

介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的原理,详细分析了此系统的硬件设计、软件设计以及扫描场的校正过程.利用硬件获取扫描图像,并进行实时标记校正,利用软件进行标记

【作者】

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张今朝方光荣

【机构】

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中国科学院电工研究所

【出处】

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微细加工技术

【发表日期】

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2006年3期

【关键词】

：

电子束曝光扫描电镜对准 electron beam lithography SEM alignment

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介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的原理,详细分析了此系统的硬件设计、软件设计以及扫描场的校正过程.利用硬件获取扫描图像,并进行实时标记校正,利用软件进行标记位置识别和校正参数计算,满足了曝光机对准系统在性能和精度上的要求.在100 μm扫描场下进行拼接曝光实验,达到了77.3 nm(2σ)的拼接精度.

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