【摘 要】
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采用磁控溅射法制备了非晶Co2MnSi（CMS）薄膜,分别利用振动样品磁强计（VSM）和X射线粉末衍射仪（XRD）对薄膜的磁及结构特性进行了表征,研究了溅射功率对CMS薄膜面内磁特性及结构特性的
【基金项目】
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国家自然科学基金（No.61273069,No.61404054）, 华侨大学中青年教师科研提升资助计划（No.ZQN-YX107）
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采用磁控溅射法制备了非晶Co2MnSi（CMS）薄膜,分别利用振动样品磁强计（VSM）和X射线粉末衍射仪（XRD）对薄膜的磁及结构特性进行了表征,研究了溅射功率对CMS薄膜面内磁特性及结构特性的影响。热磁特性分析发现,当加热温度达到400℃以后,薄膜逐渐由弱磁性转变为强磁性;随着加热温度的升高,较高功率下制备的薄膜饱和磁化强度上升较快,说明对于溅射功率越大的薄膜,强铁磁相的形成越迅速。结构特性分析表明,薄膜经400℃退火后发生了明显晶化,并且晶粒尺寸与薄膜的溅射功率相关。
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