【摘 要】
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为实现集成滤光片列阵在单片衬底上的高效制备，提出组合镀膜法，通过磁控反应溅射，以Nb2O5和SiO2为介质材料，仅通过8次镀膜就成功制备出了集成64通道的滤光片面阵。滤光片面阵的总
【机 构】
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中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,合肥微尺度物质科学国家实验室（筹）、中国科学技术大学-Shincron联合实验室、中国科学技术大学
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为实现集成滤光片列阵在单片衬底上的高效制备，提出组合镀膜法，通过磁控反应溅射，以Nb2O5和SiO2为介质材料，仅通过8次镀膜就成功制备出了集成64通道的滤光片面阵。滤光片面阵的总体尺寸只有12mm×12mm，各个滤光片通道基本呈线性分布在720．5nm-877．2nm之间，带宽在1．82nm-3．92nm之间。结果表明，组合镀膜法是一种高效的集成滤光片列阵制备方法。
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