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期刊论文
四氟化硅的纯化方法
四氟化硅的纯化方法
来源 :低温与特气 | 被引量 : 0次 | 上传用户:frgverger343
【摘 要】
:
本发明是关于制取适用于电子材料、太阳能电池元件等非晶硅半导体的高纯四氟化奎,是将含有SiOF2、(SiF3)2O、(SiF2)2SiF2O2等含氧氟化砖及SO2、SO2、H2S等硫化物的四氟化硅进
【作 者】
:
大塚丰三
木次直道
朱心才
韩美
【出 处】
:
低温与特气
【发表日期】
:
1986年2期
【关键词】
:
四氟化硅
纯化
硫化物
活性炭
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本发明是关于制取适用于电子材料、太阳能电池元件等非晶硅半导体的高纯四氟化奎,是将含有SiOF2、(SiF3)2O、(SiF2)2SiF2O2等含氧氟化砖及SO2、SO2、H2S等硫化物的四氟化硅进行纯化。
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