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介绍了一种利用双通道氦离子化气相色谱仪（PDHID）,分析四氟化硅中微量硅烷、磷烷、氟代烷、C2-C3碳氢化合物以及常见气体杂质的方法。由于四氟化硅具有很强的腐蚀性,在对其进行分析时,利用阀切割系统将大量的四氟化硅主要成分切割,及时地将四氟化硅反吹出去,使其不进入检测器系统。经过将四氟化硅气体进样检测验证,该方法能够有效测定四氟化硅气体中多种微量杂质。