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纳米集成电路用硅及硅基材料的研究进展
纳米集成电路用硅及硅基材料的研究进展
来源 :中国有色金属学会第5届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xtb0909
【摘 要】
:
综合评述了300mm硅片在晶体生长、杂质行为、缺陷控制、表面质量等方面的研究现状和硅基材料的开发进展情况,指出应变硅与绝缘体上硅(SOI)相结合是今后发展的一个趋势,而纳米集成电路用硅及硅基材料将是微电子产业蓬勃发展的基础和希望所在.
【作 者】
:
屠海令
【机 构】
:
北京有色金属研究总院(北京)
【出 处】
:
中国有色金属学会第5届学术年会
【发表日期】
:
2003年11期
【关键词】
:
纳米集成电路
单晶硅
硅基材料
半导体材料
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综合评述了300mm硅片在晶体生长、杂质行为、缺陷控制、表面质量等方面的研究现状和硅基材料的开发进展情况,指出应变硅与绝缘体上硅(SOI)相结合是今后发展的一个趋势,而纳米集成电路用硅及硅基材料将是微电子产业蓬勃发展的基础和希望所在.
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