【摘 要】
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磁控溅射镀膜电源是磁控溅射系统中的关键设备之一。根据铌靶和锡靶溅射处理装置的技术要求,研制了一套输出电压0～800V可调、脉冲宽度5～200μs可调、频率0～60Hz可调、在脉冲电流
【机 构】
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中国工程物理研究院流体物理研究所; 北京大学物理学院;
【基金项目】
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中国工程物理研究院院长基金项目(YZJJLX2016002)
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磁控溅射镀膜电源是磁控溅射系统中的关键设备之一。根据铌靶和锡靶溅射处理装置的技术要求,研制了一套输出电压0～800V可调、脉冲宽度5～200μs可调、频率0～60Hz可调、在脉冲电流最大幅值约150A的磁控溅射镀膜电源,分别给出了该电源在铌靶负载和锡靶负载下的实验结果。设计上采用高压短脉冲预电离一体化高功率双极性脉冲形成电路方法,解决了高功率磁控溅射在重复频率工作下有时不能成功溅射粒子、电离时刻不一致、溅射起弧打火靶面中毒、溅射效率低等问题,降低了磁控溅射装置内气体的工作气压,实现低气压溅射镀膜,提高了靶材的溅射效率,减小薄膜表面粗糙度。通过大量实验论证,该电源达到了理想的溅射效果,满足了指标要求。
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