【摘 要】
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由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素,导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率,因此,多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义.由于描述
【机 构】
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同济大学精密光学工程技术研究所,中国科学院高能物理研究所
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由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素,导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率,因此,多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义.由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段区域,采用它的数学模型来描述软X射线多层膜的粗糙度,利用最小二乘法曲线拟合法对同步辐射测得的Mo/Si多层膜的反射率曲线进行拟合,得到了非常好的拟合结果,从而确定了多层膜结构参量,同时分析了多层膜周期厚度,厚度比率,界面宽度以及仪器光谱分辨率对多层膜反射特性的影响,这些工作都为镀膜工艺改进提供了一定的理论依据.
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