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分析了化学镀Ni-P合金沉积机理中最为重要的原子氢理论,简述了磁流变抛光过程中材料去除机理,并选取在磁流变抛光过程中主要的工艺参数进行正交实验。利用Zygo干涉仪等实验仪器检测实验件面形,计算出每个去除函数的峰值去除率。通过实验数据分析各因素对Ni-P合金镀层抛光效率的影响规律。实验结果表明各因素对Ni-P镀层抛光效率的影响关系:抛光粉浓度>抛光间隙>抛光轮转速>镀层厚度,通过实验并结合工程实际情况对各工艺参数进行了优化,为后续Ni-P合金镀层非球面表面抛光打下基础。