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日光温室黄瓜叶片的Pn和CE以中、上位较高，尤其是第4位叶最高，顶部叶和中下位叶次之，下位叶最低，光合作用饱和光强也以中位叶最高，但光补偿点多随叶位的下降而降低，基部弱光和CE降低是导致下位叶Pn降低的主要原因。在黄瓜生长期内，各叶位叶片的Pn随PFD的升高而增大。不同叶位叶片Pn的日变化规律基本相同，均呈单峰曲线型，高峰出现在12时左右。随着种植密度的增加，植株各层次叶片的光量子通量密度逐渐降低，尤其是中下部叶片降低幅度较大。种植密度对上位叶的Pn影响不大，但对光补偿点影响较大；下位叶的Pn及其饱和光强