高k和金属栅——45nm的起点

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在被称作“40年来电脑芯片的最大变化”的新闻发布中,Intel宣布将在45nm节点的生产中引入铪基(hafnium-based)高k栅电介质和金属栅电极。在Intel之后,IBM也很快发布一个类似的通告。 In a press release titled “The Biggest Change in Computer ICs for 40 Years,” Intel announced the introduction of hafnium-based high-k gate dielectrics and metal gate electrodes into the 45nm node. IBM also released a similar announcement shortly after Intel.
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