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ＥＤＡ（电子设计自动化）的进展——深亚微米设计对互连线模型的要求北京清华大学电子工程系（１０００８４）周祖成１器件延时的实际结果比较把前面讨论过的考虑输入波形斜率和输出波形斜率的两种延时模型和ＳＰＩＣＥ仿真的数据作一比较，以０．７μｍ三层金属层ＣＭＯ...
EDA（电子设计自动化）的进展
【摘 要】
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ＥＤＡ（电子设计自动化）的进展——深亚微米设计对互连线模型的要求北京清华大学电子工程系（１０００８４）周祖成１器件延时的实际结果比较把前面讨论过的考虑输入波形斜率和输出波形斜率的两种延时模
【机 构】
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北京清华大学电子工程系
【出 处】
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电子技术应用
【发表日期】
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1997年9期
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