【摘 要】
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电子束刻蚀啁啾相位掩模版采用的是分步啁啾的方法,而掩模版制造过程中分步之间的接缝误差是啁啾光纤光栅反射峰不平坦的一个重要因素。本文以不同分步步长,总长度140mm的相
【机 构】
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全光网络与现代通信网教育部重点实验室北京交通大学,北京交通大学光波技术研究所
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电子束刻蚀啁啾相位掩模版采用的是分步啁啾的方法,而掩模版制造过程中分步之间的接缝误差是啁啾光纤光栅反射峰不平坦的一个重要因素。本文以不同分步步长,总长度140mm的相位掩模版为例,理论分析和比较了不同接缝误差对啁啾光纤光栅反射峰的影响。分析表明,最大相位误差为3°和7°时,光栅反射峰波动的统计平均分别为0.98%和2.31%。进行相关试验研究以上相位掩模版写入光栅的反射特性,得出结论与理论分析一致。
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