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同步辐射Ｘ射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置３Ｂ１Ａ光刻束线上的日光结果，并对Ｘ射线掩模的制作工艺作了简要介绍。
同步辐射X射线光刻实验研究
【摘 要】
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同步辐射Ｘ射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置３Ｂ１Ａ光刻束线上的日光结果，并对Ｘ射线掩模的制作工艺作了简要介绍。
【机 构】
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中国科学院微电子中心
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1997年3期
【基金项目】
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军用微电子重点预研资助
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