【摘 要】
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用金属离子源在96Al2O3陶瓷表面注入不同能量和剂量的Ni离子,然后在镀液中进行化学镀铜。用扫描电镜、卢瑟福背散射能谱和X光电子能谱技术对注入层和镀层进行分析研究。结果
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用金属离子源在96Al2O3陶瓷表面注入不同能量和剂量的Ni离子,然后在镀液中进行化学镀铜。用扫描电镜、卢瑟福背散射能谱和X光电子能谱技术对注入层和镀层进行分析研究。结果表明：Ni离子注入可作为一种新的活化工艺,辅助Al2O3陶瓷化学镀铜;注入参数对后续化学镀覆有显著影响,注入获得表面Ni浓度高的镀覆效果较好,应选用低能量进行高剂量注入;试验条件下优选工艺参数为15keV,2.2×10^17ions/cm^2,该条件下开始化学镀铜的孕育期仅为45s,镀速达到52.43nm/min,镀层表面粗糙度
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