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研究了高纯铝片在硫酸埠酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺。确定了电化学抛光体系的配方。探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响。获得了最佳抛光工艺参数：Ja=25A／dm^2，θ=85～93℃，r=10～15min，机械搅拌。新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础。