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ＴＣＯ膜玻璃基片中性清洗工艺传统的半导体清洗工艺，如强酸或三氯乙烯等清洗工艺，成本较高，腐蚀性强，危害操作人员的安全和健康，污染环境。ＴＣＯ膜中性清洗工艺可取代传统的半导体清洗工艺。采用电清洗剂ＤＺ－１和ＤＺ－２，能有效地去除玻璃和半导体等表面的各种...
TCO膜玻璃基片中性清洗工艺
【摘 要】
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ＴＣＯ膜玻璃基片中性清洗工艺传统的半导体清洗工艺，如强酸或三氯乙烯等清洗工艺，成本较高，腐蚀性强，危害操作人员的安全和健康，污染环境。ＴＣＯ膜中性清洗工艺可取代传统的半导体清洗工艺。
【出 处】
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技术与市场
【发表日期】
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1997年10期
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