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采用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和扫描俄歇微探针（ＳＡＭ）技术，对氧化铝基底上用磁控溅射法沉积的Ａｕ／ＮｉＣｒ薄膜系统分别经３５０℃，２０ｍｉｎ真空和大气环境下热处理后样品表面状态的变化进行了研究。
热处理引进Au／NiCr薄膜系统表面状态变化的SEM／SAM研究
【摘 要】
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采用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和扫描俄歇微探针（ＳＡＭ）技术，对氧化铝基底上用磁控溅射法沉积的Ａｕ／ＮｉＣｒ薄膜系统分别经３５０℃，２０ｍｉｎ真空和大气环境下热处理后样品表面状态的变化进行了研究。
【出 处】
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薄膜科学与技术
【发表日期】
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1995年1期
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