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叙述了采用ＤＦＪ－Ⅲ型静电封接机进行玻璃－硅－玻璃三层静电封接的工艺方法和典型工艺参数，重点分析了洁净程度、封接温度，封接电压等工艺参数对封接成功率的影响，并提出了在该设备上实现双面静电封接的改进方案。
双面静电封装工艺的初步研究
【摘 要】
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叙述了采用ＤＦＪ－Ⅲ型静电封接机进行玻璃－硅－玻璃三层静电封接的工艺方法和典型工艺参数，重点分析了洁净程度、封接温度，封接电压等工艺参数对封接成功率的影响，并提出了在该设备上实现
【出 处】
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电子技术参考
【发表日期】
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1999年2期
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