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通过理论和四极质谱法(QMs)获得了氦辉光放电清洗时的氢释放特性和氦再释特性.氢在GDC(He)时的出气为双指数衰减规律,但壁脱附的衰减常数远大于机组和电离抽除的衰减时间常数,故主要表现为脱附衰减特性,这与实验基本相符.GDC(He)后硅化层中的氦再释出气率的规律为:氦的再释放与时间的-3/2成正比.