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多晶硅薄膜制备技术的研究进展
多晶硅薄膜制备技术的研究进展
来源 :河北大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:javaname40
【摘 要】
:
多晶硅薄膜是当前在能源科学和信息技术领域中广泛使用的功能材料,它兼具单晶硅和氢化非晶硅(a-Si:H)的优点.本文评论了近几年多晶硅薄膜制备技术的研究进展,着重讨论了每种
【作 者】
:
马蕾
简红彬
康建波
彭英才
【机 构】
:
河北大学
【出 处】
:
河北大学学报(自然科学版)
【发表日期】
:
2005年1期
【关键词】
:
多晶硅薄摸
低压化学气相淀积
热丝化学气相淀积
固相晶化
激光诱导晶化
金属诱导晶化
poly_Si films
LPCVD
HWCVD
SPC
LIC
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多晶硅薄膜是当前在能源科学和信息技术领域中广泛使用的功能材料,它兼具单晶硅和氢化非晶硅(a-Si:H)的优点.本文评论了近几年多晶硅薄膜制备技术的研究进展,着重讨论了每种方法薄膜的淀积机理,并预测了多晶硅薄膜制备技术的未来发展趋势.
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