【摘 要】
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在不同温度基片上采用阴极磁控溅射法在玻璃上镀ITO透明导电膜,采用X射线衍射技术分析样品的结构随温度的变化情况,测量了样品的方块电阻、电阻率、霍尔迁移率、载流子浓度等
【机 构】
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武汉理工大学材料学院,中国建材科学研究院
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在不同温度基片上采用阴极磁控溅射法在玻璃上镀ITO透明导电膜,采用X射线衍射技术分析样品的结构随温度的变化情况,测量了样品的方块电阻、电阻率、霍尔迁移率、载流子浓度等电学性能和膜层的可见光透过率.基片温度为180 ℃时,ITO膜(222)衍射峰很强,具有[111]方向择优取向,随基片温度升高, (400)、(440)衍射峰增强,晶面随机取向增加,同时晶粒变大、电阻率降低.
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