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通过中频交流磁控溅射设备，利用金属Ti靶制备出了有一定厚度的、质量较好的TiO2薄膜，TiO2薄膜被沉积在玻璃基底上。利用各种分析测试手段对其性能进行了测试，初步探讨了不同氧流量对TiO2薄膜的影响。实验表明，不同氧流量下制备的TiO2薄膜的亲水特性发生了变化。
磁控反应溅射氧流量变化对TiO2薄膜影响的实验研究
【摘 要】
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通过中频交流磁控溅射设备，利用金属Ti靶制备出了有一定厚度的、质量较好的TiO2薄膜，TiO2薄膜被沉积在玻璃基底上。利用各种分析测试手段对其性能进行了测试，初步探讨了不同氧流
【机 构】
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东北大学真空与流体工程研究中心,中国科学院金属研究所
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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2007年3期
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