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期刊论文
论位错的稳定存在
论位错的稳定存在
来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ljiand
【摘 要】
:
阐述了Thomas-Fermi-Dirac-Cheng电子理论的位错形成机制. 通过对系统总能量的分析提出了位错能够存在的判据, 计算给出多种单质材料位错存在的极限尺寸值.
【作 者】
:
程开甲
程漱玉
【机 构】
:
西北核技术研究所
【出 处】
:
稀有金属材料与工程
【发表日期】
:
2002年2期
【关键词】
:
位错
Thomas-Fermi-Dirac-Cheng
电子理论
极限尺寸
dislocation
Thomas-Fermi-Dirac-Cheng
lim
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阐述了Thomas-Fermi-Dirac-Cheng电子理论的位错形成机制. 通过对系统总能量的分析提出了位错能够存在的判据, 计算给出多种单质材料位错存在的极限尺寸值.
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