中子掺杂(NTD)硅在晶闸管制造中的应用

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本工作是中子嬗变掺杂硅(Neutron Transmutation Doped Si)材料成功研制的深入和继续。NTD硅是国际上七十年代后半期开发的、我国于1978~1981年试制、并于1981年底鉴定的新材料。它是半导体与原子能两种技术结合的成果。它基于硅单晶在原子反应堆中吸收热中子而使基体中的部分硅(_(30)Si~(14))原子嬗变为磷(_(31)P~(15))原子,从而实现硅材料的均匀、准确,无外沾污掺杂。 This work is the successful development of the Neutron Transmutation Doped Si material. NTD silicon is developed internationally in the latter half of the seventies, our country in 1978 to 1981 trial production, and in 1981 the identification of new materials. It is the result of a combination of two technologies, semiconductor and atomic energy. Based on the fact that silicon single crystal absorbs the thermal neutrons in the atomic reactor and transforms some silicon (_ (30) Si ~ (14)) atoms in the matrix to phosphorus (_ (31) P ~ (15)) atoms, Silicon material is uniform, accurate, non-contaminated doping.
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