等离子体质谱(ICP—MS)测定高纯氧化镱中痕量稀土和非稀土杂质研究

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本文报道ICP-MS直接测定高纯(5N~6N)氧化镱中稀土和非稀土杂质的新方法,对ICP-MS测定中的光谱干扰和基体效应进行了详细考察,结果表明,用镓作内标,可有效地补偿因氧化镱引起的基体效应,方法的检出限在0.0X-0.Xng/mL范围,相对标准偏差(RSD)(n=7)〈10%,已应用于高纯氧化镱的工艺流程及其产品分析。
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