减少EUV光刻装置光学表面污染物的专利技术

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EUV光刻技术是光刻领域中非常重要的分支,在EUV光子以及工作环境中污染物的作用下,EUV光学表面极易被污染,会降低光学表面的反射率,并影响光学系统的寿命和曝光性能,由此减少光学表面污染尤为重要。文章将对污染预防技术和污染清除技术的专利技术进行梳理。
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