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减少EUV光刻装置光学表面污染物的专利技术
减少EUV光刻装置光学表面污染物的专利技术
来源 :决策探索(中) | 被引量 : 0次 | 上传用户:tangyajun1314
【摘 要】
:
EUV光刻技术是光刻领域中非常重要的分支,在EUV光子以及工作环境中污染物的作用下,EUV光学表面极易被污染,会降低光学表面的反射率,并影响光学系统的寿命和曝光性能,由此减少
【作 者】
:
孙宏
【机 构】
:
国家知识产权局专利局专利审查协作江苏中心
【出 处】
:
决策探索(中)
【发表日期】
:
2018年4Z期
【关键词】
:
EUV光刻
光学表面污染
预防技术
清除技术
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EUV光刻技术是光刻领域中非常重要的分支,在EUV光子以及工作环境中污染物的作用下,EUV光学表面极易被污染,会降低光学表面的反射率,并影响光学系统的寿命和曝光性能,由此减少光学表面污染尤为重要。文章将对污染预防技术和污染清除技术的专利技术进行梳理。
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