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用傅里嚅变换红外光分光光度法测定不同条件下退火处理的聚对苯对二甲酸乙二酯膜的谱图,用谱带粉离技术对归属于反式构象的1340cm^-1谱带进行阻尼最小两乘分峰处理,结合属左在式构象贡献的1454cm^-1谱带,用线性回归分析的方法获得晶区反式构象,非晶区反式构象,非晶区左右式构象的百分含量。