TiO2纳米孔薄膜负载5,10,15,20-四(4-羟苯基)卟啉的正交优化

来源 :电镀与涂饰 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yhl_2011
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采用阳极氧化法,通过二步施加电压的方式制备了具有纳米孔结构的TiO2薄膜,随后以周期换向脉冲将光敏剂5,10,15,20-四(4-羟苯基)卟啉(简称THPP)负载到该薄膜上。利用正交试验,通过在0.25mol/L的Na2SO4溶液中测量有无光照下的开路电位和电化学阻抗谱,研究了正、反向占空比,正、反向脉冲工作时间,总时间,负载液温度,平均电流等7个工艺参数对薄膜光电性能的影响。结果表明,影响占主导地位的因素为温度、正向脉冲工作时间和正向占空比,其次为平均电流和负载的总时间,影响最小的是反向占空比和反向脉冲
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