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反应磁控溅射方法制备AlN薄膜是一种很普遍的方法，但采用该方法制备时，各个参数相互作用使过程复杂化。为了增强对该过程的理解，建立了反应溅射过程的动态模型。应用该模型分析了当氮流量增加或减少时，过程中的各个参数随时间变化的瞬态行为。计算出的溅射参数与实测值相符。模型清楚地表明，过程的初始状态对其动态行为有显著的影响。