【摘 要】
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研究预氧化、封接温度和保温时间等工艺参数对氧化铝透明陶瓷与Nb金属焊接接头结合强度及显微组织的影响。利用万能材料试验机和扫描电镜分别测试封接试样的剪切强度、显微组
【机 构】
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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室;
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研究预氧化、封接温度和保温时间等工艺参数对氧化铝透明陶瓷与Nb金属焊接接头结合强度及显微组织的影响。利用万能材料试验机和扫描电镜分别测试封接试样的剪切强度、显微组织及元素分布,并借助XRD分析界面物相。结果表明:1390℃下保温10min时,剪切强度最高,达到94.46MPa。焊料/Al2O3陶瓷界面上析出了Dy2Si2O7晶体,焊料/金属Nb界面附近形成了2μm左右厚的反应层。
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