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本文采用磁控溅射技术制作了新型的薄膜式锰铜超高压力传感器，获得了32ns的快速响应，同时，研究了传感器的安装方式及绝缘封装层的厚度对传感器响应时间的影响关系。
快响应薄膜式高压锰铜传感器
【摘 要】
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本文采用磁控溅射技术制作了新型的薄膜式锰铜超高压力传感器，获得了32ns的快速响应，同时，研究了传感器的安装方式及绝缘封装层的厚度对传感器响应时间的影响关系。
【机 构】
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电子科技大学
【出 处】
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仪器仪表学报
【发表日期】
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2001年1期
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