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FT—IR技术在半导体材料中的应用
FT—IR技术在半导体材料中的应用
来源 :半导体情报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cc249879369
【摘 要】
:
介绍了FT-IR测量技术在半导体材料中的应用。对Si、GaAs等材料的试样制备、杂质缺陷的测量及光谱研究进行了全面报道。大量实验结果表明,该技术是研究半导体材料结构、成分、杂质和缺陷特
【作 者】
:
李光平
汝琼娜
【机 构】
:
天津电子部第46研究所
【出 处】
:
半导体情报
【发表日期】
:
1994年3期
【关键词】
:
半导体材料
杂质
红外吸收光谱
Semiconductor material
Impurity and defect
Infrared absorption s
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介绍了FT-IR测量技术在半导体材料中的应用。对Si、GaAs等材料的试样制备、杂质缺陷的测量及光谱研究进行了全面报道。大量实验结果表明,该技术是研究半导体材料结构、成分、杂质和缺陷特性的有效方法。
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