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以电子束蒸发法制得的ＭｇＯ保护膜为例，对保护膜制备参数，例如基板温度、沉积速率等 对保护膜表面结晶结构、形貌及成分等基本特性的影响进行了研究，为保护膜制备工艺的优化提供了指导。
保护膜制备参数对其性能影响的实验研究
【摘 要】
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以电子束蒸发法制得的ＭｇＯ保护膜为例，对保护膜制备参数，例如基板温度、沉积速率等 对保护膜表面结晶结构、形貌及成分等基本特性的影响进行了研究，为保护膜制备工艺的优化提供了指
【机 构】
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西安电子科技大学微电子研究所,西安交通大学物理与器件研究所
【出 处】
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真空电子技术
【发表日期】
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1999年2期
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