等离子体化学气相沉积高度定向TiN膜

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在射频等离子体化学气相沉积条件下,在玻璃、低碳钢、云母、单晶Si(|||)等基材上沉积TiN薄膜。试验表明,在这些基材上,在一定条件下,都可得到高度定向的TiN膜。研究了等离子体化学气相沉积中形成高度定向膜的条件及原因。 TiN thin films are deposited on substrates such as glass, mild steel, mica, single crystal Si (|||) under radio frequency plasma chemical vapor deposition. Experiments show that on these substrates, under certain conditions, can be highly oriented TiN film. The conditions and reasons for the formation of highly oriented films in plasma enhanced chemical vapor deposition were investigated.
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