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用RHEED方法分析半导体薄膜特性
用RHEED方法分析半导体薄膜特性
来源 :红外技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lyt0821
【摘 要】
:
在讨论RHEED原理的基础上,介绍了组建的RHEED和其附属的真空系统,并用此装置得到了Si薄膜的RHEED衍射花样。本文还对实验条件和实验结果进行了简单的分析和介绍。
【作 者】
:
王跃春
日正伸
【机 构】
:
昆明物理研究所,日本山梨大学工学部电子情报科
【出 处】
:
红外技术
【发表日期】
:
1997年2期
【关键词】
:
衍射花样
RHEED
半导体薄膜
RHEEDDiffraction patternThin film
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在讨论RHEED原理的基础上,介绍了组建的RHEED和其附属的真空系统,并用此装置得到了Si薄膜的RHEED衍射花样。本文还对实验条件和实验结果进行了简单的分析和介绍。
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