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对比两种集成电路制造湿法工艺设备的优缺点及未来发展趋势，对影响单片湿法清洗工艺中蚀刻率因素进行分析总结，介绍化学药液混合和制程喷吐中流量控制技术的发展，设计实验将两种化学药液流量控制阀件的蚀刻清洗效果对比，并对未来技术发展进行简要分析。
晶圆湿法蚀刻清洗工艺及流量控制发展
【摘 要】
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对比两种集成电路制造湿法工艺设备的优缺点及未来发展趋势，对影响单片湿法清洗工艺中蚀刻率因素进行分析总结，介绍化学药液混合和制程喷吐中流量控制技术的发展，设计实验将两种化学药液流量控制阀件的蚀刻清洗效果对比，并对未来技术发展进行简要分析。
【机 构】
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合肥工业大学仪器科学与光电工程学院
【出 处】
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清洗世界
【发表日期】
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2022年10期
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