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采用像散模式的平场光栅谱仪作为分光元件,点状镁激光等离子体X射线源为原始光源,获得均匀线状单色软互射线再生源,在此基础上,用多阶梯衰减膜为相对曝光强度标尺,现场标定了上海感光胶片厂生产的5FW无保护膜X光底片,给出了5.0～8.0 nm间的底片响应特性.
用平场光栅谱仪现场标定5FW X光底片
【摘 要】
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采用像散模式的平场光栅谱仪作为分光元件,点状镁激光等离子体X射线源为原始光源,获得均匀线状单色软互射线再生源,在此基础上,用多阶梯衰减膜为相对曝光强度标尺,现场标定了上海感光胶片厂生产的5FW无保护膜X光底片,给出了5.0～8.0 nm间的底片响应特性.
【机 构】
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中国科学院上海光学机械研究所,上海201800
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1994年14期
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