【摘 要】
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在对外延片的测试中,常采用三探针和汞探针C-V两种方法.我们在进行比较、分析、实践的基础上,提出了为使器件生产性能稳定,尤其在高阻外延或应用场合较为严格的测试情况下,应
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在对外延片的测试中,常采用三探针和汞探针C-V两种方法.我们在进行比较、分析、实践的基础上,提出了为使器件生产性能稳定,尤其在高阻外延或应用场合较为严格的测试情况下,应采用汞探针C-V法为宜.
In the test of the epitaxial wafer, two methods of three probes and mercury probe CV are often used.On the basis of comparison, analysis and practice, we put forward that in order to make the production performance of the device stable, especially in the high resistance extension or application Occasionally more stringent test cases, the mercury probe should be used CV method is appropriate.
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